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ラジカルモニター F-RadiMo 小型VUV分光器
ラジカルモニター
F-RadiMo
小型VUV分光器
  ラジカルモニターは、プロセスで使える唯一のラジカル計測装置です。1ポート型(SP型)と対向型(DP型)があります。 計測対象プラズマ、用途によりセレクトできます。     プラズマ装置内におけるフッ素(F)ラジカルの絶対密度をモニタリングできるラジカルモニターです。     RadiMo用に開発した小型真空紫外分光器です。真空紫外分光用途に単独でもご使用可能です。  
     
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置 大気圧プラズマ評価装置 高密度ラジカル源装置
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
超高密度室温大気圧プラズマ装置
高密度ラジカル源装置
  第4の状態といわれるプラズマを大気圧下で発生させる、小型大気圧非平衡プラズマ装置です。     大気圧プラズマを評価、制御する各パラメータを簡単に計測可能です。     GaN MBE(分子線エピタキシャル成長)装置等に必要とされる高密度原子状ラジカルを発生し、効率的に供給する装置です。  
 
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置 高精度スーパーコンティニューム光源 ナノカーボン堆積装置
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置
高精度スーパーコンティニューム光源
ナノカーボン堆積装置
  小型実験装置から大型量産装置まで、超臨界状態でのナノテクノロジー分野における製品開発に応用していただけます     世界初、光ファイバから出力される高輝度・超広帯域で低雑音・超平坦な高精度スーパーコンティニューム光源です。     大面積ナノカーボン・PNナノカーボン堆積装置およびハイバーナノコーティング装置をご用意しています。  
 
CCP型プラズマエッチング装置 CCP型プラズマエッチング装置 基板温度モニター
CCP型プラズマエッチング装置
EBEP処理装置
基板温度モニター
  高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現する狭ギャップ平行平板型エッチング装置です。     低圧高密度プラズマによる高速・高品質表面処理装置。CVD, エッチング, 表面改質のプロセスに最適です。     光干渉計測を基本原理とし、非接触で基板の温度を正確かつリアルタイムで測定可能です。  
 
 
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