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NUシステム株式会社
製品紹介
ラジカルモニター
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
F-RadiMo
小型VUV分光器
超高密度室温大気圧プラズマ装置
高密度ラジカル源装置
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置
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ナノカーボン堆積装置
CCP型プラズマエッチング装置
EBEP処理装置
基板温度モニター
会社概要
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F-RadiMo
プラズマ装置内におけるフッ素(F)ラジカルの絶対密度をモニタリングできるラジカルモニターです。

フッ素ラジカルモニター

仕様
  • 【原理】 真空紫外吸収分光法
  • 【計測対象ラジカル】 基底状態(2p5 2P)フッ素ラジカル
  • 【プローブ光】 波長 95.6nm(2p4 3s 2P-2p5 2P)
  • 【計測密度範囲】  3.8×1010~1.1×1013[p-3]

(理論値・・・吸収率:5%〜95%、吸収長150mm、ラジカル温度400Kの場合)

特徴
  • 吸収分光法により基底状態のフッ素ラジカル絶対密度の計測が出来ます。
  • 光源から放射されるプローブ光のスペクトルは高精度にキャリブレーションされています。
  • 発行、非発光プラズマのどちらでも計測することが出来ます。
  • 絶対密度算出のため校正が必要ありません。
  • F-RadiMoはプロセス装置のポートに取り付けることにより計測可能になります。
応用
  • プラズマ発生ラジカル計測
    • エッチング装置
    • 表面処理装置
    • チャンバークリーニング
  • ダウンフロープラズマ発生ラジカル計測
  • アフターグロープラズマ発生ラジカル測定
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