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NUシステム株式会社
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EBEP処理装置
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EBEP処理装置
従来のプラズマ発生方法では、外部から電力を導入するため、プラズマガスの電離によって生じた電子のみがプラズマ中に存在しています。そのためプラズマパラメータはガス流量・圧力、および外部電力の種類等に依存していました。これに対しEBEPは制御された電子ビームをプラズマ反応空間中に直接打ち込むことにより、プラズマガスを電離させます。これにより、プラズマパラメータを直接的に制御することが出来ます。

EBEP装置

 

適用例
  • 高速窒化処理(難窒化材にも適用可)
  • 機能性膜(BN膜等)
  • 酸化膜エッチング
  • カーボン膜(DLC,ダイヤモンド膜)
  • ナノカーボン膜(CNT,CNW)
  • Si膜
  • 酸化膜 他
EBEP(電子ビーム励起プラズマ源)概略図

EBEP概略図

※電子ビーム励起プラズマ源は、(独)理化学研究所の特許の実施権を取得して改良を加え、装置化したものです。

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