NUsystem  
NUシステム株式会社
製品紹介
ラジカルモニター
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
F-RadiMo
小型VUV分光器
超高密度室温大気圧プラズマ装置
高密度ラジカル源装置
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置
高精度スーパーコンティニューム光源
ナノカーボン堆積装置
CCP型プラズマエッチング装置
EBEP処理装置
基板温度モニター
会社概要
お問い合せ
 
CCP型プラズマエッチング装置
国立大学法人名古屋大学と共同開発した狭ギャップ平行平板型エッチング装置であり、高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工を実現することが可能です。
CCP型プラズマエッチング装置
特徴
  • プロセスガスからラジカルを選択的に生成
  • 停電し温度、高密度プラズマが得られる60MHzパワーを上部電極に印加、イオンエネルギーを高精度に制御するため2MHzを鞄d極に印加(オプション)
  • 常に最適なエッチングプロセス条件が維持されるシーケンスプログラムを内蔵。エッチング処理ごとのクリーニング処理(O2)により、電極やチャンバー壁についてフロン系膜を除去
狭ギャップ平行平板型エッチング装置概略図

CCP略図

有機膜エッチングSEM写真

CCP_SEM

▲ページトップ
Copyright © 2006 nu-system.co.jp. All Rights Reserved.