NUsystem  
NUシステム株式会社
製品紹介
ラジカルモニター
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
F-RadiMo
小型VUV分光器
超高密度室温大気圧プラズマ装置
高密度ラジカル源装置
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置
高精度スーパーコンティニューム光源
ナノカーボン堆積装置
CCP型プラズマエッチング装置
EBEP処理装置
EBEP処理装置
会社概要
お問い合せ
基板温度モニター

プラズマをはじめとする加工・成膜などの製造プロセスを高精度に制御することが必要不可欠となっている。重要なプロセス条件である基板温度を非接触で正確に高速計測が可能な光モニタリングシステムを開発 。

CSC2

測定スペクトル

(例)プラズマエッチング装置

強度雑音

基板温度計測の原理

 

特徴
  • 基盤そのものを測定→接触型はプローブの温度が表示されるため、測定対象物と熱平衡でない場合は正確な温度が測れない
  • 高速応答
  • 多層基板の各層の温度を個別に測定可能
  • 薄膜の膜厚と基板の温度の同時測定が可能

CSC2

▲ページトップ
Copyright © 2006 nu-system.co.jp. All Rights Reserved.