NUsystem  
NUシステム株式会社
製品紹介
ラジカルモニター
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
F-RadiMo
小型VUV分光器
大気圧プラズマ評価装置
高密度ラジカル源装置
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置
高精度スーパーコンティニューム光源
ナノカーボン堆積装置
CCP型プラズマエッチング装置
EBEP処理装置
基板温度モニター
会社概要
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ラジカルモニター(RadiMo)

世界初!

プロセスで使える超小型ラジカル絶対密度計測装置

各種プラズマ技術を用いて行うエッチング・表面処理・薄膜作製プロセス時において、プラズマ中に生成され、これらプロセスに重要な役割を果す各種原子状ラジカルの絶対密度を計測し、プロセスへのフィードバックを可能としたモニタリング装置です。

ラジカルモニター
 
仕様
  • 【ラジカル種】 H/N/O
  • 【計測方式】  真空紫外吸収分光
  • 【検出限界】  1010個/cm³以上
  • 【測定方式】  プローブ方式
  • 【取付け方法】 ICF70フランジ
特徴
  • 水素、窒素、酸素の原子状ラジカルを真空紫外吸収分光法を用いてダイレクトに計測し、プロセスにフィードバック可能
  • ICF70フランジに取付可能
  • 各種プラズマ装置に取付可能(EBEP処理装置, CCPエッチング/CVD, Catプロセス/CVD, ICPエッチング/CVD 等)
  • 真空排気系一体制御型モニタリングシステム等、システム構成はお客様のニーズに対応
構成
  • ラジカルモニターヘッド
  • 制御電源
  • 小型真空紫外分光器 波長帯域:120〜170nm
  • 真空排気系
  • データ解析装置
概略図
ラジモ図

※その他各種ラジカル計測及びラジカル応用装置についてはお問い合せ下さい。

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