NUsystem  
NUシステム株式会社
製品紹介
ラジカルモニター
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
F-RadiMo
小型VUV分光器
超高密度室温大気圧プラズマ装置
高密度ラジカル源装置
ナノ粒子製造・担持用超臨界装置
高精度スーパーコンティニューム光源
ナノカーボン堆積装置
CCP型プラズマエッチング装置
EBEP処理装置
基板温度モニター
会社概要
お問い合せ
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
第4の状態といわれるプラズマを大気圧下で発生させる、小型大気圧非平衡プラズマ装置です。装置はAC100Vで駆動させることができ非常に簡便な取扱いが可能です。プラズマは微小スポットでありながら電子密度が1015個/cm³と、非常に高密度なプラズマを発生させることができます。
μ-AP型大気圧非平衡プラズマ装置
Arプラズマ発生状態
Arプラズマ発生状態
特徴
  • 【高電子密度】  1015個/cm³
  • 【供給電圧】   AC100V駆動
  • 【プラズマガス】 Ar、窒素、酸素 他
  • 【小型簡便】
  • 【微小スポットプラズマ】
応用例
  • 親水
  • 表面クリーニング
  • 接合強度向上
  • 有機化合物合成
  • 減菌・殺菌
  • カーボンナノ成長
大気圧非平衡プラズマ表面照射による親水性の変化
※各種大気圧プラズマ装置に関するご要望に対応させていただきます。
▲ページトップ
Copyright © 2006 nu-system.co.jp. All Rights Reserved.